Webinar 23 września: Nowa definicja kontroli pomieszczeń czystych i miniśrodowisk dzięki monitorowaniu nanocząstek

Nadchodzący webinar 23 września: Nowa definicja kontroli pomieszczeń czystych i miniśrodowisk dzięki monitorowaniu nanocząstek

Kiedy: 23 września  2025

Godzina: 9 AM,   Zarejestruj się już teraz!

Godzina: 4 PM,  Zarejestruj się już teraz!

Czas trwania: 60 min

Weź udział w bezpłatnym webinarze i poznaj nowoczesne podejście do monitorowania środowiska!

Niezawodne liczenie cząstek z rozdzielczością nanometrową może być wykorzystane do poprawy procesów w pomieszczeniach czystych oraz w czystej produkcji. Historycznie monitorowanie opierało się na technologiach i standardach związanych z mikronami, koncentrujących się na charakteryzowaniu pomieszczeń i procesów na poziomie mikronowym. Technologia kondensacyjnego liczenia cząstek (CPC) umożliwia detekcję na poziomie nanometrów, zapewniając większą czułość rozmiarową, jednak jej obsługa wiązała się zazwyczaj ze skomplikowaną logistyką i ograniczoną niezawodnością.

NanoAir10 rozwiązuje te problemy. Jego kompaktowa konstrukcja pozwala na użycie wewnątrz narzędzi procesowych, w miejscach narażenia wafli, a także w połączeniu z systemem ParticleSeeker Smart Manifold do półciągłego monitorowania. Dzięki najlepszym parametrom „zero count” dla nanometrowych CPC dostępnych na rynku, NanoAir10 zapewnia najbardziej niezawodne wyniki detekcji na poziomie 10 nm.

Podczas tego webinaru zostaną zaprezentowane przypadki zastosowania tej technologii w celu poprawy procesów w pomieszczeniach czystych oraz specyfikacji produkcji czystej, aby sprostać wymaganiom określonym w IRDS.

Czego się dowiesz:

  • Przejście od rozdzielczości mikronowej do nanometrowej w monitorowaniu pomieszczeń czystych,
  • Jak rozwiązać problemy z niezawodnością w liczeniu cząstek nanometrowych,
  • Rozszerzone możliwości monitorowania i dostosowanie do wymagań branżowych.

Dla kogo jest ten webinar:

To wydarzenie jest skierowane do wszystkich specjalistów odpowiedzialnych za jakość, bezpieczeństwo i zgodność procesów w środowiskach kontrolowanych, w szczególności dla:

  • Specjaliści ds. walidacji pomieszczeń czystych i menedżerowie operacyjni,
  • Inżynierowie ds. kontroli zanieczyszczeń,
  • Specjaliści ds. zanieczyszczeń molekularnych powietrza (AMC),
  • Technik monitorowania środowiska,
  • Inżynierowie ds. integracji procesów,
  • Inżynierowie ds. sprzętu i narzędzi,
  • Inżynierowie procesów w fabrykach półprzewodników,
  • Inżynierowie ds. obróbki wafli,
  • Inżynierowie ds. produkcji półprzewodników,
  • Inżynierowie ds. metrologii,
  • Inżynierowie ds. zwiększania wydajności,
  • Inżynierowie ds. zastosowań (monitorowanie pomieszczeń czystych, liczniki cząstek),
  • Menedżerowie ds. produktów (narzędzia do detekcji nanocząstek),
  • Inżynierowie ds. marketingu technicznego,
  • Inżynierowie serwisu terenowego (systemy CPC),
  • Inżynierowie ds. gazów,
  • Menedżerowie dystrybucji gazów,
  • Specjaliści ds. jakości gazów masowych,
  • Technicy monitorowania gazów sprężonych,
  • Inżynierowie ds. kontroli procesów i procesów produkcyjnych,
  • Inżynierowie ds. zapewnienia jakości.

Zarejestruj się na nasz webinar i zdobądź wiedzę o CCS

Webinar poprowadzą:

 

Benton Hutchinson

Menedżer linii produktowej

Benton jest Menedżerem Linii Produktowej w firmie Particle Measuring Systems, gdzie specjalizuje się w monitorowaniu aerozoli, gazów sprężonych oraz zanieczyszczeń molekularnych w powietrzu (AMC) w pomieszczeniach czystych. Dzięki wykształceniu w dziedzinie inżynierii chemicznej oraz praktycznemu doświadczeniu w branży półprzewodników i mikroelektroniki wspiera producentów w doskonaleniu kontroli zanieczyszczeń. Jako ekspert w zakresie wykrywania i redukcji AMC oraz cząstek w środowiskach krytycznych, pomaga w utrzymaniu wysokiej wydajności produkcji i zgodności pomieszczeń czystych z normami. Prowadził szkolenia techniczne i prezentacje dotyczące kontroli zanieczyszczeń w pomieszczeniach czystych na całym świecie.

Benton posiada tytuł licencjata i magistra inżynierii chemicznej. W Particle Measuring Systems wspiera globalne innowacje w monitorowaniu pomieszczeń czystych.

Lexi Lake

Inżynier Aplikacyjny

Lexi Lake,  jest Inżynierem Aplikacyjnym w firmie Particle Measuring Systems, specjalizującym się w monitorowaniu aerozoli, gazów oraz zanieczyszczeń molekularnych w powietrzu (AMC) w środowiskach produkcyjnych pomieszczeń czystych. Współpracuje z firmami farmaceutycznymi, biotechnologicznymi, półprzewodnikowymi i mikroelektronicznymi, pomagając im doskonalić strategie kontroli zanieczyszczeń. Wcześniej pracowała jako Inżynier Aerobiologii, gdzie prowadziła badania i rozwój w obszarze aerozoli oraz uczestniczyła w opracowywaniu nowych technologii monitorowania mikrobiologicznego. Jej zaplecze naukowe obejmuje badania nad patogenami przenoszonymi drogą powietrzną oraz terapiami chorób układu oddechowego. Lexi posiada tytuł magistra mikrobiologii oraz licencjata z biologii. Regularnie dzieli się swoją wiedzą, prowadząc prezentacje dotyczące monitorowania cząstek żywych i nieżywych, zachowania cząstek w powietrzu oraz strategii kontroli zanieczyszczeń.

Serdecznie zapraszamy,

Zespół Uni-export

ZLICZNIE MIKROPLASTIKU

Twoje zapytanie

0
image/svg+xml

Brak produktów.