Monitorowanie cząstek w produkcji półprzewodników jest bardzo ważne, gdyż produkcja półprzewodników napędza postęp technologiczny i wymaga rozwiązań wspierających monitorowanie zanieczyszczeń, które nadążają za tym postępem. Wafle półprzewodnikowe przechodzą przez wiele narzędzi procesowych podczas procesu produkcyjnego, co wymaga danych o zanieczyszczeniach w czasie rzeczywistym w celu ochrony płytek przed uszkodzeniem.
Najnowsza technologia monitorowania cząstek zapewnia natychmiastowe i ciągłe dane, które umożliwiają szybkie i precyzyjne wykrywanie zanieczyszczeń cząstkami podczas procesów produkcyjnych z czułością na cząstki o wielkości nawet 10 nm. Ponadto można teraz uzyskać pełne pokrycie produkcji za pomocą pojedynczego licznika cząstek w połączeniu z akcesorium kolektora wielopunktowego.
Zarejestruj się teraz, aby poznać:
– Nowe możliwości kontroli zanieczyszczeń dzięki najnowszym rozwiązaniom monitorowania cząstek w produkcji półprzewodników
– Jak wykorzystać dane cząstek w czasie rzeczywistym do rozwiązywania problemów i poprawy ogólnej czystości narzędzi
– Korzyści z pełnego pokrycia narzędzia przy użyciu wielopunktowego systemu
Data i godzina szkolenia:
8 czerwca 2023 08:00
lub
8 czerwca 2023 17:00
Webinar poprowadzi:
David Green, inżynier zastosowań
David Green jest inżynierem aplikacji w firmie Particle Measuring Systems i ukończył fizykę na University College London. Pracował ponad 13 lat w dziedzinie metrologii cząstek elementarnych i dołączył do PMS w 2013 roku jako inżynier R&D.
W celu rejestracji wejdź na stronę organizatora.
